Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- & LCD-Substrate

1 Set
MOQ
$80,000 to $100,000
Preis
Ultrasonic Vacuum Hydrocarbon Cleaning System for Semiconductor & LCD Substrates
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Eigenschaften
Technische Daten
Anwendungen: Halbleiter- und LCD-Substrate
Charakter des Dienstes: Planen Sie 20 Stunden pro Tag ein
Arbeitsrhythmus: 5-7min / Korb
Stromversorgung: 380 ± 10%/50 Hz
Ultraschallfrequenz: 30 bis 50 kHz
Trocknungszeit: 5-7 Minuten
Hervorheben:

Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem

,

Halbleitersubstrat-Reinigungsmaschine

,

LCD-Substrat-Vakuumreiniger

Grundinformation
Herkunftsort: Guangdong
Markenname: Hongshun
Zertifizierung: CCC/CE
Modellnummer: HS-6684MF
Zahlung und Versand AGB
Verpackung Informationen: Film
Lieferzeit: 55 Tage
Zahlungsbedingungen: L/c, t/t
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 5 Sätze / Monat
Produkt-Beschreibung

Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- und LCD-Substrate


Übersicht über das Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem:

Unser Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem wurde für die ultrareinen Anforderungen von Halbleiter- und LCD-Substraten entwickelt und liefert eine rückstandsfreie, beschädigungsfreie Reinigung, die für die Leistung elektronischer Komponenten entscheidend ist.

Es kombiniert zwei leistungsstarke Technologien: Hochfrequenz-Ultraschall (40-120 kHz), der Mikroblasen erzeugt, um Submikron-Verunreinigungen (Staub, Flussmittel, organische Rückstände) von Substratoberflächen und feinen Schaltkreisen zu lösen, gepaart mit einer Vakuum-Kohlenwasserstoff-Umgebung, die die Lösungsmittelpenetration verbessert – selbst in engen Spalten, ohne empfindliche Strukturen zu beschädigen. Das Vakuum beschleunigt auch die Trocknung durch die Reduzierung des Lösungsmittel-Siedepunkts und stellt sicher, dass keine Wasserflecken oder Lösungsmittelrückstände zurückbleiben (entsprechend den ISO 14644-1 Klasse 5 Reinraumanforderungen).

Gebaut mit antistatischen Komponenten und einer abgedichteten, kontaminationsfreien Kammer, schützt es empfindliche Substrate während der Reinigung. Ideal für Halbleiterwafer-, LCD-Panel- und Mikrochip-Hersteller, gewährleistet dieses System konsistente, hochreine Ergebnisse – entscheidend für die Aufrechterhaltung der Zuverlässigkeit elektronischer Komponenten und der Ausbeuteraten in der fortschrittlichen Fertigung.


Wartung & Kundendienst für das Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem:

Wir bieten umfassende Wartung und Kundendienst für das HS-6684MFG, um einen langfristig zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten. Die Maschine wird mit einer 1-Jahres-Garantie (ab Endabnahme) geliefert, die kostenlose Reparaturen und den Austausch von Teilen für Fehler abdeckt, die durch normalen Gebrauch verursacht wurden. Verbrauchsmaterialien wie Filterpatronen, Dichtungen,und Heizungen sind ausgeschlossen, aber leicht zu erwerben.


Die routinemäßige Wartung ist unkompliziert. Die Zirkulationsfilter (10μ/5μ/20μ/50μ) müssen monatlich ausgetauscht werden (15 Stück/Monat), um die Filtrationseffizienz aufrechtzuerhalten. Das Wärmeübertragungsöl in den Dampferzeugungs- und Destillationseinheiten sollte alle 2500 Betriebsstunden gewechselt werden, während das Schmieröl der Vakuumpumpe alle 200 Stunden überprüft und nachgefüllt werden muss. Das zugängliche Design der Maschinesmit einem Wartungsfreiraumbedarf von 1 Meterermöglicht es Technikern, leicht auf Komponenten wie Pumpen, Ultraschallgeneratoren und Schaltschränke zuzugreifen.


Der Kundendienst reagiert umgehend: Nach Erhalt einer Fehlermeldung antwortet das Unternehmen innerhalb von 4 Stunden. Allgemeine Fehler werden innerhalb von 24 Stunden behoben, komplexe Probleme innerhalb von 48 Stunden und größere Probleme werden durch gegenseitige Verhandlung angegangen. Darüber hinaus wird eine kostenlose Vor-Ort-Schulung (24 Stunden) für 2+ Bediener angeboten, die mechanische/elektrische Wartung, Bedienung, Programmierung und Fehlersuche umfasst. Zwei Sätze chinesischer Betriebshandbücher werden bereitgestellt, englische Versionen sind auf Anfrage erhältlich. Für Kunden, die erweiterten Support benötigen, werden auch kostenpflichtige Wartungsverträge (z. B. jährliche Inspektionen) angeboten.


Verbrauch des Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigers als Referenz:

Bestellnummer

Name

 Verbrauch

Bemerkungen

 Kohlenwasserstoffe

Nach Bedarf hinzufügen

Es hängt von der Reinigungsmenge ab

Filter-Baumwollkern

Ungefähr 12 pro Monat

Bei Bedarf ersetzen

Wärmeträgeröl

100L/2500 Stunden

Alle 2500 Arbeitsstunden ersetzen

Vakuumpumpen-Schmieröl

0,2L/200 Stunden

Alle 200 Arbeitsstunden prüfen und nachfüllen

Stromverbrauch

Ungefähr 30 kW/Stunde

Durchschnittswert

Druckluft

400 NL/min

Antriebsverwendung (Zylinder, Pneumatikventil)

Für eine vollständige technische Lösung des  Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigers, kontaktieren Sie mich bitte. Wir passen das Design an Ihre technischen Produktanforderungen und das Fabriklayout an.


Unsere typischen Kunden:

   Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- & LCD-Substrate 0    Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- & LCD-Substrate 1



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