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Vakuumwasserstoffreinigungsleitung

Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- & LCD-Substrate

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Kontakt

Mr. Jesse Tang

hongshunautomation@gmail.com

8613929185382

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Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- & LCD-Substrate

Markenname:	Hongshun
Modellnummer:	HS-6684MF
Mindestbestellmenge:	1 Set
Preis:	$20,000 to $50,000
Verpackungsdetails:	Film
Zahlungsbedingungen:	L/c, t/t

Detailinformationen

Produktbeschreibung

Detailinformationen

Herkunftsort:

Guangdong

Zertifizierung:

CCC/CE

Anwendungen:

Halbleiter- und LCD-Substrate

Charakter des Dienstes:

Planen Sie 20 Stunden pro Tag ein

Arbeitsrhythmus:

5-7min / Korb

Stromversorgung:

380 ± 10%/50 Hz

Ultraschallfrequenz:

30 bis 50 kHz

Trocknungszeit:

5-7 Minuten

Versorgungsmaterial-Fähigkeit:

5 Sätze / Monat

Hervorheben:

Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem

Halbleitersubstrat-Reinigungsmaschine

LCD-Substrat-Vakuumreiniger

Produktbeschreibung

Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem für Halbleiter- und LCD-Substrate

Unser Ultraschall-Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungssystem wurde für die Anforderungen an ultrahohe Reinheit von Halbleiter- und LCD-Substraten entwickelt und liefert eine rückstandsfreie und beschädigungsfreie Reinigung, die für die Leistung elektronischer Komponenten entscheidend ist.

Fortschrittliche Reinigungstechnologie

Das System kombiniert zwei leistungsstarke Technologien: Hochfrequenz-Ultraschall (40–120 kHz), der Mikroblasen erzeugt, um Verunreinigungen im Submikrometerbereich (Staub, Flussmittel, organische Rückstände) von Substratoberflächen und feinen Schaltkreisen zu entfernen, gepaart mit einer Vakuum-Kohlenwasserstoffumgebung, die das Eindringen von Lösungsmitteln verbessert und selbst schmale Lücken erreicht, ohne empfindliche Strukturen zu beschädigen. Das Vakuum beschleunigt auch die Trocknung durch Reduzierung des Siedepunkts des Lösungsmittels und sorgt so dafür, dass keine Wasserflecken oder Lösungsmittelrückstände entstehen (erfüllt die Reinraumnormen ISO 14644-1 Klasse 5).

Industrielle Anwendungen

Ausgestattet mit antistatischen Komponenten und einer versiegelten, kontaminationsfreien Kammer schützt es empfindliche Substrate während der Reinigung. Dieses System ist ideal für Hersteller von Halbleiterwafern, LCD-Panels und Mikrochips und gewährleistet konsistente, hochreine Ergebnisse – entscheidend für die Aufrechterhaltung der Zuverlässigkeit elektronischer Komponenten und der Ausbeute in der modernen Fertigung.

Wartung und Kundendienst

Wir bieten umfassenden Wartungs- und After-Sales-Support für den HS-6684MFG und sorgen so für einen langfristig zuverlässigen Betrieb. Für die Maschine gilt eine einjährige Garantie (ab der Endabnahme), die kostenlose Reparaturen und den Austausch von Teilen für Fehler umfasst, die durch normalen Gebrauch verursacht wurden.

Wartungsplan

Umwälzfilter (10μ/5μ/20μ/50μ) müssen monatlich ausgetauscht werden (≈15 Stück/Monat)
Wärmeträgeröl in Dampferzeugungs- und Destillationsanlagen sollte alle 2500 Betriebsstunden gewechselt werden
Das Schmieröl der Vakuumpumpe muss alle 200 Stunden überprüft und nachgefüllt werden
Zugängliches Design mit 1 Meter Wartungsfreiraum für einfachen Zugang zu den Komponenten

Support-Dienste

4 Stunden Reaktionszeit für Fehlermeldungen
Allgemeine Störungen werden innerhalb von 24 Stunden, komplexe Probleme innerhalb von 48 Stunden behoben
Kostenlose Vor-Ort-Schulung (≥24 Stunden) für mehr als 2 Bediener
Ausführliche Bedienungsanleitungen auf Chinesisch (Englisch auf Anfrage erhältlich)
Für erweiterten Support stehen kostenpflichtige Wartungsverträge zur Verfügung

Verbrauchsreferenz

Bestellnummer	Name	Verschwendung	Bemerkungen
1	Kohlenwasserstoffe	Nach Bedarf hinzufügen	Hängt vom Reinigungsvolumen ab
2	Filterkern aus Baumwolle	Ungefähr 12 pro Monat	Bei Bedarf ersetzen
3	Mittleres Öl erhitzen	100 l/2500 Stunden	Alle 2500 Arbeitsstunden ersetzen
4	Schmieröl für Vakuumpumpe	0,2 l/200 Stunden	Überprüfen und ergänzen Sie alle 200 Arbeitsstunden
5	Stromverbrauch	Ungefähr 30 kW/Stunde	Durchschnittswert
6	Druckluft	400 NL/min	Antriebsnutzung (Zylinder, Pneumatikventil)

Für eine komplette technische Lösung der Vakuum-Kohlenwasserstoff-Reinigungsmaschine kontaktieren Sie uns bitte. Wir passen das Design an die technischen Anforderungen Ihres Produkts und das Fabriklayout an.

Unsere typischen Kunden

Tags:

Automatisierte Passivierungssysteme

Automatische Anodisierungslinie

automatische Pulverbeschichtungslinie

Spray-Reinigungs-Maschine

Vakuumwasserstoffreinigungsleitung

Ultraschallreinigungslinie

Flachglas-Waschmaschine

Industrie-Trocknungsöfen

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