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Solar-Silizium-Wafer-Reinigungsmittel zum Entfernen von Klebstoff

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Mr. Jesse Tang

hongshunautomation@gmail.com

8613929185382

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Solar-Silizium-Wafer-Reinigungsmittel zum Entfernen von Klebstoff

Markenname:	Hongshun
Modellnummer:	HS-25SS
Mindestbestellmenge:	10 Fässer
Preis:	$20-$30/barrel
Verpackungsdetails:	Fass
Zahlungsbedingungen:	L/C, T/T

Detailinformationen

Produktbeschreibung

Detailinformationen

Herkunftsort:

Dongguan

Zertifizierung:

ISO9001

Aussehen:

Farblose bis leicht gelbe Flüssigkeit

Dichte:

1,10–1,2 g/l

pH-Wert:

13 - 14

Sicherheit:

Nicht brennbar, nicht korrosiv

Verpackung:

25 kg pro Fass

Versorgungsmaterial-Fähigkeit:

500 Eimer/Monat

Hervorheben:

Solar-Silizium-Waferreinigungsmittel

Klebe entfernende Reinigungslösung

Solarwafer-Klebstoffentferner

Produktbeschreibung

Solar-Silizium-Wafer-Reinigungsmittel zum Entfernen von Klebstoff

Dieses spezielle Solar-Silizium-Wafer-Reinigungsmittel wurde speziell für elektronische und Solar-Silizium-Wafer in IT- und Solarzellen-Anwendungen entwickelt.Es bietet eine außergewöhnliche Leistung bei der EmulgationDas Produkt weist eine starke Entfernung, Komplexierung,und Reinigungsfähigkeiten für Metallionen bei gleichzeitiger Erhaltung einer ausgezeichneten Umweltverträglichkeit und einer starken Reinigungseffizienz.

Produktvorteile

Speziell für Siliziumwafer-Materialien mit hohen Reinheitsstandards entwickelt
Niedrige Schaumkennzahlen, geeignet für IT-Anforderungen mit hoher Präzision
Ausgezeichnete Reinigungsleistung ohne Rückstände und ohne Auswirkungen auf die Leitfähigkeit
Schnelle Reinigungsgeschwindigkeit mit nicht korrosiven Eigenschaften und einfaches Spülen
Umweltschonend, geruchlos und nicht Hautreizend
Niedriger Geruch, nicht toxisch, ohne Flammpunkt, nicht brennbar und nicht explosiv
frei von Metallionen und Phosphor, mit der EU-RoHS-Zertifizierung konform

Technische Spezifikation

Aussehen	Farblose bis leicht gelbe Flüssigkeit
Dichte	1.10-1,2 g/l
pH (Arbeitslösung)	13 - 14
Sicherheit	Nicht brennbar, nicht ätzend
Umweltkonformität	Phosphor- und Halogenfrei, erfüllt die EU-RoHS-Vorschriften

Prozessflussdiagramm

Gebrauchsanweisung

Füllen Sie den Reinigungsbehälter mit 3/4 reinem Wasser, fügen Sie anschließend das Reinigungsmittel in einer Konzentration von 3-5% hinzu und füllen Sie den Reinigungsbehälter mit reinem Wasser bis zum Betriebsniveau.Die Lösung wird auf den gewünschten Temperaturbereich von 50 bis 65 °C erhitzt.Bearbeitungszeit: 2-5 Minuten.

Anwendungsbereiche

Hauptsächlich zur Nachschneidungsreinigung von Siliziumwafern für Solarzellen sowie zur Reinigung nach dem Schneiden von Halbleiterchips und -wafern verwendet.

Tags:

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Adresse

Gebäude 1, Nr. 13, Sanheng Road, Lianhu South, Stadt Tangxia, Stadt Dongguan

Telefone

86--13929185382

E-Mail

hongshunautomation@gmail.com

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