logo
Giá tốt  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Nhà > các sản phẩm >
Các mặt hàng tiêu thụ
>
Chất tẩy rửa wafer silicon mặt trời để loại bỏ keo

Chất tẩy rửa wafer silicon mặt trời để loại bỏ keo

Tên thương hiệu: Hongshun
Số mô hình: HS-25SS
MOQ: 10 thùng
Giá: $20-$30/barrel
Chi tiết đóng gói: thùng
Điều khoản thanh toán: L/C,T/T
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Dongguan
Chứng nhận:
ISO9001
Vẻ bề ngoài:
Chất lỏng không màu đến hơi vàng
Tỉ trọng:
1,10-1,2g/L
pH:
13 - 14
Sự an toàn:
Không cháy, không ăn mòn
Bao bì:
25Kg mỗi thùng
Khả năng cung cấp:
500 xô/tháng
Làm nổi bật:

chất tẩy rửa wafer silicon mặt trời

,

dung dịch làm sạch loại bỏ keo

,

Máy tháo keo từ miếng wafer mặt trời

Mô tả sản phẩm
Chất Tẩy Rửa Tấm Silicon Năng Lượng Mặt Trời Để Loại Bỏ Keo
Chất tẩy rửa tấm silicon năng lượng mặt trời chuyên dụng này được thiết kế đặc biệt cho các tấm silicon cấp điện tử và cấp năng lượng mặt trời trong các ứng dụng CNTT và pin mặt trời. Là một dung dịch một thành phần, nó mang lại hiệu suất vượt trội trong việc nhũ hóa, xà phòng hóa và làm sạch các vết dầu khác nhau bao gồm dầu động vật, dầu thực vật và dầu khoáng, cũng như các chất lơ lửng và bột mài. Sản phẩm có khả năng tẩy rửa, tạo phức và làm sạch các ion kim loại mạnh mẽ đồng thời duy trì khả năng tương thích môi trường tuyệt vời và hiệu quả làm sạch mạnh mẽ.
Ưu điểm sản phẩm
  • Được điều chế đặc biệt cho vật liệu tấm silicon với tiêu chuẩn độ sạch cao
  • Đặc tính tạo bọt thấp phù hợp với các yêu cầu CNTT có độ chính xác cao
  • Hiệu suất làm sạch tuyệt vời, không có cặn và không ảnh hưởng đến độ dẫn điện
  • Tốc độ làm sạch nhanh với các đặc tính không ăn mòn và dễ xả
  • Thân thiện với môi trường, không mùi và không gây kích ứng da
  • Ít mùi, không độc hại, không điểm chớp cháy, không dễ cháy và không nổ
  • Không chứa ion kim loại và phốt pho, tuân thủ chứng nhận RoHS của EU
Thông số kỹ thuật
Ngoại hình Chất lỏng không màu đến hơi vàng
Tỷ trọng 1.10-1.2g/L
pH (dung dịch làm việc) 13 - 14
An toàn Không dễ cháy, không ăn mòn
Tuân thủ môi trường Không chứa phốt pho, không chứa halogen, tuân thủ các yêu cầu RoHS của EU
Sơ đồ quy trình
Chất tẩy rửa wafer silicon mặt trời để loại bỏ keo 0
Hướng dẫn sử dụng
Đổ đầy 3/4 nước tinh khiết vào bể làm sạch, sau đó thêm chất tẩy rửa với nồng độ 3-5% và đổ đầy nước tinh khiết đến mức vận hành. Đun nóng dung dịch đến phạm vi nhiệt độ yêu cầu là 50-65℃. Thời gian xử lý: 2-5 phút.
Lĩnh vực ứng dụng
Chủ yếu được sử dụng để làm sạch sau khi cắt các tấm silicon cho pin mặt trời, cũng như làm sạch sau khi cắt các chip và tấm bán dẫn.
Chất tẩy rửa wafer silicon mặt trời để loại bỏ keo 1