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Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla
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Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla
  • Nome

Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla

Marchio: Hongshun
Numero di modello: HS-25SS
MOQ: 10 barili
Prezzo: $20-$30/barrel
Dettagli dell'imballaggio: barile
Termini di pagamento: L/C, T/T
Informazioni Dettagliate
Descrizione del prodotto
Informazioni Dettagliate
Luogo di origine:
Dongguan
Certificazione:
ISO9001
Aspetto:
Liquido da incolore a leggermente giallo
Densità:
1,10-1,2 g/l
pH:
13 - 14
Sicurezza:
Non infiammabile, non corrosivo
Confezione:
25 kg per barile
Capacità di alimentazione:
500 secchi/mese
Evidenziare:

Agente di pulizia per wafer di silicio solare

,

soluzione di pulizia per la rimozione della colla

,

rimuovitore di adesivi per wafer solari

Descrizione del prodotto
Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla
Questo agente di pulizia specializzato per wafer di silicio solare è stato progettato specificamente per wafer di silicio di grado elettronico e solare in applicazioni IT e celle solari.offre prestazioni eccezionali nell'emulsionamento, saponificazione e pulizia di varie macchie di olio, compresi gli oli animali, vegetali e minerali, nonché sospensioni e paste di macinatura.e capacità di pulizia per gli ioni metallici mantenendo un'eccellente compatibilità ambientale e una potente efficienza di pulizia.
Vantaggi del prodotto
  • Specificamente formulati per materiali di wafer di silicio con elevati standard di pulizia
  • Caratteristiche di bassa schiuma adatte a requisiti informatici di alta precisione
  • Performance di pulizia eccellente senza residui e senza impatto sulla conduttività
  • Velocità di pulizia rapida con proprietà non corrosive e facile risciacquo
  • Ecologici, inodori e non irritanti per la pelle
  • Pochi odori, non tossici, senza punto di infiammabilità, non infiammabili e non esplosivi
  • Libero da ioni metallici e fosforo, conforme alla certificazione UE RoHS
Specifiche tecniche
Apparizione Liquido da incolore a leggermente giallo
Densità 10,10-1,2 g/l
pH (soluzione di lavoro) 13 - 14
Sicurezza Non infiammabili, non corrosivi
Conformità ambientale Senza fosforo, senza alogeni, conforme ai requisiti RoHS dell'UE
Diagramma del flusso di processo
Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla 0
Istruzioni d'uso
Riempire il serbatoio di pulizia con 3/4 di acqua pura, quindi aggiungere l'agente di pulizia a una concentrazione del 3-5% e completare il riempimento con acqua pura fino al livello di funzionamento.Riscaldare la soluzione all'intervallo di temperatura richiesto di 50-65°CTempo di elaborazione: 2-5 minuti.
Campi di applicazione
Utilizzato principalmente per la pulizia post-taglio di wafer di silicio per celle solari, nonché per la pulizia dopo il taglio di chip e wafer a semiconduttori.
Agente di pulizia per wafer di silicio solare per la rimozione della colla 1
Tag: 

Detergente per pulizia a ultrasuoni  

additivi del rivestimento della polvere  

Agente passivante

8613929185382
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Edificio 1, n. 13, Sanheng Road, Lianhu South, Tangxia Town, Dongguan City

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